第51章 光刻机的启动（1/2）

时瑞阳站在光刻机前，他的眼神中充满了专注和决心。

这是一台庞大而复杂的机器，它的存在象征着科技的力量和人类智慧的结晶。

在成功完成硅片的清洗和涂覆光刻胶之后，他准备开始芯片制作的下一步——光刻。

这是整个芯片制造过程中最关键的一步，也是最具挑战性的一步。

他深吸一口气，走到控制台前，开始按照预先设定的程序启动机器。

首先，他打开了电源开关，光刻机的各个部分开始慢慢运转起来。

接着，他输入了一系列指令，调整机器的各项参数，确保它们处于最佳工作状态。

他的手指在键盘上飞快地敲击着，每一个动作都显得熟练而自信。

随着机器的启动，时瑞阳的内心也逐渐平静下来。

他知道，这只是一个开始，真正的挑战还在后面。

他转向光刻机的曝光区域，准备将涂覆好光刻胶的硅片放入其中。

然而，就在这时，他发现光刻机的曝光区域似乎有些异常。

他皱起眉头，仔细观察，发现是曝光区域的光源不稳定。

这让他感到有些困扰，因为他知道，光源的不稳定会影响到光刻的效果。

他必须解决这个问题，否则整个芯片制造过程都可能受到影响。

时瑞阳开始思考解决办法。他回忆起之前的学习和经验，尝试调整光刻机的光源参数。

经过一番努力，他终于找到了问题所在，并成功解决了光源不稳定的问题。

他的脸上露出了满意的微笑，他知道，他已经迈过了第一个难关。

他松了一口气，将涂覆好光刻胶的硅片放入曝光区域。

他调整好曝光参数，确保激光能够精确地照射到硅片上，形成所需的图案。

随着曝光的进行，时瑞阳的心跳也逐渐加快。

他紧紧地盯着光刻机，观察着硅片上的变化。

当曝光完成，他长舒了一口气，他知道，这只是一个开始，接下来的步骤更加复杂和困难。

接下来，时瑞阳将硅片放入显影机中。显影是光刻过程的重要环节，它能够将曝光后形成的图案显现出来。

时瑞阳启动显影程序，显影液开始作用，将曝光区域的光刻胶溶解，露出硅片上的图案。

然而，在显影过程中，时瑞阳发现显影液的效果并不理想。他皱起眉头，思考着解决办法。

他回忆起之前的学习和经验，尝试调整显影液的浓度和温度。经过一番努力，他终于找到了问题所在，并成功解决了显影效果不佳的问题。

他的脸上再次露出了满意的微笑，他知道，他已经迈过了第二个难关。